관찰소재: SiO2
관찰장비: SEM
배율: 15000


Si trench 기판의 입구를 막기위해 PECVD로 올린 SiO2 hard mask의 단면 SEM 사진이 마치 고대 그리스 로마신전처럼 웅장함을 지니고 있다. 특히 bosch process로 만들어낸 Si trench 벽의 균일한 굴곡은 고급스러움을 더해주고 있다.